Patent- und Designrecht
Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht
Vorwort von Andreas Heinemann
Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS
Neuauflage
Die 17. Auflage berücksichtigt u. a. Änderungen des PatentG, der PatentVO, dem G über intern. PatÜbk, der PatKostZV, der AusführungsO zum EPÜ, der EPO-Gebührenordnung und der PCT-Ausführungsordnung
Zielgruppe
Für Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.