Patentgesetz von Georg Benkard | Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz | ISBN 9783406727894

Patentgesetz

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

von Georg Benkard, herausgegeben von Klaus Bacher
Mitwirkende
Autor / AutorinGeorg Benkard
Herausgegeben vonKlaus Bacher
Sonstige Bearbeitung vonKlaus Bacher
Sonstige Bearbeitung vonFriedrich-Wilhelm Engel
Sonstige Bearbeitung vonStephan Fricke
Sonstige Bearbeitung vonKlaus Grabinski
Sonstige Bearbeitung vonHelga Kober-Dehm
Sonstige Bearbeitung vonKlaus-Jürgen Melullis
Sonstige Bearbeitung vonJulia Nobbe
Sonstige Bearbeitung vonAnnette Rupp-Swienty
Sonstige Bearbeitung vonHubertus Schacht
Sonstige Bearbeitung vonUwe Scharen
Sonstige Bearbeitung vonIna Schnurr
Sonstige Bearbeitung vonWalter Schramm
Sonstige Bearbeitung vonHans-Detlef Schwarz
Sonstige Bearbeitung vonPeter Tochtermann
Buchcover Patentgesetz | Georg Benkard | EAN 9783406727894 | ISBN 3-406-72789-1 | ISBN 978-3-406-72789-4
Inhaltsverzeichnis 1

Patentgesetz

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

von Georg Benkard, herausgegeben von Klaus Bacher
Mitwirkende
Autor / AutorinGeorg Benkard
Herausgegeben vonKlaus Bacher
Sonstige Bearbeitung vonKlaus Bacher
Sonstige Bearbeitung vonFriedrich-Wilhelm Engel
Sonstige Bearbeitung vonStephan Fricke
Sonstige Bearbeitung vonKlaus Grabinski
Sonstige Bearbeitung vonHelga Kober-Dehm
Sonstige Bearbeitung vonKlaus-Jürgen Melullis
Sonstige Bearbeitung vonJulia Nobbe
Sonstige Bearbeitung vonAnnette Rupp-Swienty
Sonstige Bearbeitung vonHubertus Schacht
Sonstige Bearbeitung vonUwe Scharen
Sonstige Bearbeitung vonIna Schnurr
Sonstige Bearbeitung vonWalter Schramm
Sonstige Bearbeitung vonHans-Detlef Schwarz
Sonstige Bearbeitung vonPeter Tochtermann
Zum Werk Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen BlickErläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und PraktikerGründliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes Zur Neuauflage Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht. Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG). Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.